打破垄断：云南鑫耀联合九峰山实验室（华工科技的深度合作伙伴），成功攻克了6英寸磷化铟单晶片量产技术，外延均匀性等关键指标达到国际领先水平。这打破了日本住友、美国AXT等国外厂商在高端磷化铟衬底领域的长期垄断。

降本增效：6英寸衬底相较于行业此前主流的3英寸衬底，能显著降低光芯片制造成本（预计30%-40%）并提升生产效率，有力推动下游光通信等产业的国产化进程。

全产业链优势：云南锗业拥有从“锗矿开采-高纯锗提炼-化合物半导体衬底（磷化铟、砷化镓）”的完整产业链4，原料自给率高，成本控制能力较强